应用指南
半导体
在半导体制造的薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、封装等工艺中，需要高真空或超高真空环境来确保工艺的精确性和产品质量。例如在真空镀膜中，思科涡旋真空泵可提供稳定的真空环境，使薄膜均匀沉积在半导体晶圆表面；在芯片封装过程中，能抽取腔体形成真空，防止芯片氧化和杂质进入。同时，在芯片封装或半导体生产过程中，需要对设备进行真空处理，以去除内部气体，确保产品性能和可靠性。涡旋真空泵能够提供高精度的真空环境，是半导体行业的重要设备。
